譬如，眼鏡片的清洗一般要10個工序。在使用水系清洗劑時， 基本的工序制定如下：水系清洗劑→純水、自來水→脫水，干燥處理對清洗物的清洗性優(yōu)劣非常重要，常見的干燥方法有熱風干燥、通風干燥、真空干燥、離心脫水干燥、IPA提升干燥等，可按照生產(chǎn)批量、成本、產(chǎn)品精度、被洗物形狀等加以選擇。工業(yè)用乳化罐多為單槽或雙槽式、自動清洗形式的清洗機也有多槽形式。近年來，半導體行業(yè)用的清洗方式大多采用帶950KHZ 超聲槽的單枚式“US噴淋”高頻清洗，可得到高性能的清洗結(jié)果，“US噴淋”的方式是將載有950KHZ超聲波所形成的水帷幕，用于液晶玻璃、電路芯片的超精密清洗，塵粒子可接近“零”的程度。今后不同產(chǎn)品的濕式清洗，如需100％地發(fā)揮清洗劑的性能作用，對超聲清洗裝置將會提出更高的要求。

乳化罐的系統(tǒng)組成

一、慢速混合系統(tǒng) 攪拌槳結(jié)構(gòu)為框式，二重攪拌型，中間槳葉與框式括壁轉(zhuǎn)動槳為對流攪拌，轉(zhuǎn)動槳工作轉(zhuǎn)速宜為15—60r/min范圍內(nèi)。 速度過慢：減速器發(fā)熱嚴重。 速度過快：減速器受損加快。括板由聚四氟乙烯制成，調(diào)整以平貼鍋壁為宜的熱交換。 1兩個反向旋轉(zhuǎn)的低速攪拌系統(tǒng)。由一個布滿刮板的吊架和葉片組成。 2全自動的可移動的刮板由PTFE材質(zhì)制成，在有物料情況下才能工作，且易于拆裝和清洗。 3動平衡的同心軸。 4外部的吊架和內(nèi)部葉片由不銹鋼SUS316L制成。 5電子定時器安裝在PLC上,以便于調(diào)節(jié)工作時間。 6配備的減速電機——ABB公司生產(chǎn),速度可由變頻器直接調(diào)節(jié)，速度為0—80rpm/min。 慢速混合系統(tǒng)在物料內(nèi)部產(chǎn)生兩股單獨的逆向流動。 （1）一個沿中心垂直流動迫使物料流向容體底部，其作用為快速把物料進給到均質(zhì)透平的底部。 （2）一個圓周環(huán)形的流動迫使物料圍繞在混合容器內(nèi)壁上，以便在加熱和冷卻階段進行熱交換，并避免物料由于過熱或過冷所遭受的破壞。 二、快速均質(zhì)混合系統(tǒng) 1快速均質(zhì)混合動作由安裝在罐底中心位置的一個透平完成。 2 透平由齒形的靜子和帶有槳葉轉(zhuǎn)子組成。 3 透平由SUS316L不銹鋼制成，轉(zhuǎn)動部分經(jīng)過動平衡的同心軸。 4電子定時器裝在PLC上,以調(diào)節(jié)加工時間。 5配備的減速電機——ABB公司生產(chǎn),采用變頻調(diào)速，速度0-3000r/min 這種結(jié)構(gòu)形式的特點保證了加工過程的高度清潔性，其原因如下： 由于沒有電機法蘭連接的影響，對物料不會產(chǎn)生污染。 透平設(shè)置易于清潔、維護和裝卸。 罐體底部是 光滑的且無連接，并易于清潔。 可以安裝一個中心閥（選項）來卸料。 混合和均質(zhì)馬達安裝在罐體上部，遠離加工區(qū)。 嚴格的保護操作人員的 。 三、加熱/冷卻系統(tǒng) 1 加熱由外接的蒸汽通過夾套向內(nèi)罐傳熱. 2 從PLC上通過溫控儀控制夾套中的水溫。 3溫度控制由一個電子調(diào)溫控制器和安裝在罐底底部的電偶組成，能準確讀取物料的實際溫度。 4 冷卻由外接的冷水通過夾套直接完成。 四、真空系統(tǒng) 1水環(huán)真空泵。 2 真空表指示容體內(nèi)真空， 3真空 開關(guān)設(shè)計為避免在有真空狀態(tài)下嚴禁打開上蓋的操作。 4上蓋的氣密性由法蘭上的硅填料保證。 5理論上真空度 為20℃狀態(tài)下730mm/hg。為獲得 的乳化效果， 避免空氣進入物料中。真空狀態(tài)下的加工允許直接注入液體或粉體進入容體中。 五、上蓋提升系統(tǒng) 上蓋的提升和下降是由一組液壓裝置完成的，配有 限動系統(tǒng)，可以把上蓋停留在期望任何位置上。 六、容體傾倒系統(tǒng) 容體傾倒系統(tǒng)用于卸料，由手動轉(zhuǎn)輪完成，并停留在任一角度。 七、加工控制 觀測窗配有清洗器和燈，有良好的內(nèi)部可視性。 八、 系統(tǒng) 1. 鎖禁止在真空狀態(tài)下誤打開上蓋。 2.如上蓋與容體沒有完好對準，密閉度不夠，停用。 3.如果上蓋沒有 提升，傾倒功能停用。 4.當上蓋開時，混合和均質(zhì)馬達，真空泵停用。 5.限動微動開關(guān)自動執(zhí)行上蓋的開/關(guān)。 6.各參數(shù)可按用戶要求予以變化，并達到 性能。