超純水設(shè)備/半導體材料清洗超純水/超純水維護/超純水保養(yǎng)

            （馬錦玉 18151073719）

半導體超純水設(shè)備主要用于高技術(shù)的工業(yè)生產(chǎn)過程，尤其是半導體超純水設(shè)備這種要求較高的技術(shù)尖端行業(yè)，對水質(zhì)要求非常嚴格。半導體超純水設(shè)備用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金屬離子含量都要在ppb級以下，總硅小于3ppb，TOC小于50ppb，電阻率在18M?·cm以上，半導體超純水設(shè)備水質(zhì)中及其微量的雜質(zhì)原子都會對產(chǎn)品造成極大的影響。

控制系統(tǒng)：采用PLC可編程序智能控制以及觸摸屏控制，開機時設(shè)備電控系統(tǒng)自動檢測，配備漏電保護裝置;全自動制水、儲水桶儲水，取水用水快速及時;停水或水壓不夠，系統(tǒng)自動斷電停機保護，無須專人職守。

深度除鹽：采用反滲透深度除鹽處理技術(shù)(針對源水含鹽量較高地區(qū)采用兩級反滲透)，可生產(chǎn)出高品質(zhì)的純水作為后級純化、超純水設(shè)備的進水，使其保持更佳狀態(tài)運行和延長使用壽命。

半導體硅材料高純水設(shè)備的使用原理：

1、水進入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿模板外側(cè)流動，以洗去透出膜外的離子。

2、樹脂截留水中的溶存離子。

3、被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。

4、陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。

5、陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。

6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。

7、無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

超純水設(shè)備/半導體材料清洗超純水/超純水維護/超純水保養(yǎng)